簡要描述:上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成。
改良型膠體磨,創(chuàng)新膠體磨,研磨分散膠體磨,研磨分散機(jī),改進(jìn)型膠體磨
上海SGN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。
改良型膠體磨,這種*的設(shè)計(jì),放眼世界,獨(dú)上海SGN一家,咨詢
SGN改進(jìn)型膠體磨,研磨分散機(jī),簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī),合二為一了。同時具備膠體磨和分散機(jī)的功能,并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的,時間差因素。從成本上來講,原先兩臺設(shè)備的價格,現(xiàn)在用一臺研磨分散機(jī)就可以完成,性價比更高。
GMD2000系列,研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
GMD2000系列,研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
GMD2000系列,研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
GMD2000系列改進(jìn)型膠體磨設(shè)備選型表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。
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改進(jìn)型膠體磨,研磨分散機(jī),研磨均質(zhì)機(jī),研磨乳化機(jī),全新的設(shè)計(jì)理念,超高設(shè)備剪切力,以及穩(wěn)定的設(shè)備運(yùn)行,SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設(shè)備服務(wù)!